Modelowanie specjacji krzemu w wodach termalnych
Defence Date
2018-01-29
Authors
Supervisors:
Reviewers:
Access rights
Other title
Hydrogeochemical modeling of silicon speciation in thermal water
Resource type
Defence details
Description
Abstract
Wody termalne Bańskiej Niżnej charakteryzują się podwyższoną zawartością składnika swoistego, jakim jest kwas metakrzemowy. W oparciu o obowiązujące prawo oraz archiwalne wyniki analiz fizykochemicznych dokonano krótkiej charakterystyki wód. Celem projektu było wykonanie modelowania specjacyjnego krzemu, dzięki czemu określono zawartość poszczególnych form migracyjnych w dniach 03.03.2015r. oraz 20.08.2015r. Modelowanie hydrogeochemiczne wykonano w oparciu o dane z 3 ujęć eksploatujących wody termalne: Bańska PGP-1, Bańska PGP-3, Bańska IG-1. Dodatkowo za pomocą funkcji MIX oceniono wpływ intensywności wydobycia wód termalnych na różnice w rozkładzie specjacji krzemu. Osobno zmieszano wody w czasie zwiększonego wydobycia, a osobno w czasie wstrzymania eksploatacji w otworze IG-1 w okresie letnim. Poprzez modelowanie hydrogeochemiczne wskazano, że rozkład specjacji krzemu wód Bańskiej Niżnej jest prawie taki sam bez względu na lokalizację, czas analizy czy wielkość wydobycia. Dominującą część całkowitego stężenia krzemu stanowi kwas ortokrzemowy H4SiO4, którego zawartość to ponad 99%.
The thermal waters of Bańska Niżna contain increased content of a specific component - metasilic acid. This paper presents short water characterstics based on valid law and results of physicochemical analyzes. The aim of the project was to perform modeling of silicon speciation and determine the variation of chemical composition in March and August 2015. The hydrogeochemical modeling was made in connected with data from 3 intakes of geothermal water. Additionaly, using MIX function, estimated concentration of individual migration forms of silica, which depended on the volume of extraction. Geochemical modeling has shown that the distribution of silicon speciation is constant, despite the differences in temperature, extraction or location. The largest part of the total silicon concentration is silicic acid H4SiO4 (99%).

