Repository logo
Thesis

Warstwy tlenkowo-fluorkowe otrzymywane metodą elektrolitycznego utleniania plazmowego na materiale termoelektrycznym Mg2Si

dc.contributor.authorDudek, Maria
dc.contributor.departmentWydział Inżynierii Metali i Informatyki Przemysłowej
dc.contributor.reviewerMichta, Grzegorz
dc.contributor.supervisorMajewska-Zawadzka, Kinga
dc.date.available2019-11-04T14:49:11Z
dc.date.defence2019-09-19
dc.description.typepraca magisterska
dc.identifier.urihttps://repo.agh.edu.pl/handle/AGH/78800
dc.language.isopol
dc.rightsAccess rights reserved
dc.rights.accesszastrzeżony dostęp
dc.rights.accessNoteBrak zgody na udostępnienie pracy w czytelni Biblioteki Wydziałowej
dc.rights.urihttps://repo.agh.edu.pl/info/restricted-access
dc.subjectkrzemek magnezupl
dc.subjectMg2Sipl
dc.subjectelektrolityczno-plazmowe utlenianiepl
dc.subjectpowłoki tlenkowo-fluorkowepl
dc.titleWarstwy tlenkowo-fluorkowe otrzymywane metodą elektrolitycznego utleniania plazmowego na materiale termoelektrycznym Mg2Sipl
dc.title.alternativeOxide-fluoride layers prepared by plasma electrolytic oxidation on Mg2Si thermoelectric materialen
dc.typepraca dyplomowa
dspace.entity.typePublication
thesis.degree.disciplineInżynieria Materiałowa (WIMiIP)pl
thesis.degree.formOfStudystacjonarnepl
thesis.degree.grantorAkademia Górniczo-Hutnicza im. Stanisława Staszica w Krakowiepl
thesis.degree.levelstudia drugiego stopniapl
thesis.degree.namemagister inżynierpl
thesis.identifier.dxp255663
thesis.statusORPDORPPD1_sent

Files