Electrochemical codeposition of molybdenum and selenium

Abstract

The electrodeposition of Mo-Se thin films from a sulfate solution containing Na2MoO4 and H2SeO3 was studied. The process of deposition was conducted under potentiostatic conditions on a copper electrode. The effect of potential value, pH, and time of deposition were examined. The deposits were characterized by X-ray diffraction, X-ray fluorescence, and scanning electron microscopy. The obtained results have shown the possibility of co-deposition of molybdenum and selenium with different stoichiometric ratios.

Przeprowadzono badania dotyczące procesu elektrochemicznego osadzania molibdenu z selenem z roztworów siarczanowych zawierających Na2Mo4 i H2SeO3. Proces osadzania przeprowadzono w warunkach potencjostatycznych na elektrodach miedzianych. Zbadano wpływ potencjału, pH elektrolitu oraz długości czasu osadzania na jakość otrzymanych powłok. Otrzymane warstwy były badane z wykorzystaniem dyfrakcji rentgenowskiej, spektrofluorymetrii rentgenowskiej oraz skaningowego mikroskopu elektronowego. Wykazano możliwość otrzymania powłok o różnym stosunku molibdenu do selenu.