Repository logo
Thesis

Atomic Layer Deposition on ultrahigh aspect-ratio nanostructures – modelling and experiment

dc.contributor.authorSzmyt, Wojciech
dc.contributor.departmentWydział Fizyki i Informatyki Stosowanej
dc.contributor.reviewerWoch, Wiesław
dc.contributor.supervisorKapusta, Czesław
dc.contributor.supervisorUtke, Ivo
dc.date.available2016-04-22T06:52:21Z
dc.date.defence2015-09-22
dc.description.typepraca magisterska
dc.identifier.urihttps://repo.agh.edu.pl/handle/AGH/32910
dc.language.isoeng
dc.rightsAccess rights reserved
dc.rights.accesszastrzeżony dostęppl
dc.rights.accessNoteZarządzenie Rektora AGHpl
dc.rights.urihttps://repo.agh.edu.pl/info/restricted-access
dc.titleAtomic Layer Deposition on ultrahigh aspect-ratio nanostructures – modelling and experimenten
dc.title.alternativeOsadzanie warstw atomowych na nanostrukturach o ultrawysokim współczynniku wydłużenia - modelowanie i eksperymentpl
dc.typepraca dyplomowa
dspace.entity.typePublication
thesis.degree.disciplineFizyka Techniczna (WFiIS)pl
thesis.degree.formOfStudystacjonarnepl
thesis.degree.grantorAkademia Górniczo-Hutnicza im. Stanisława Staszica w Krakowiepl
thesis.degree.levelstudia drugiego stopniapl
thesis.degree.namemagister inżynierpl
thesis.description.otherinfoCorrect – DRS, courseIDpl
thesis.identifier.dxp184884
thesis.statusORPDORPPD1_sent
thesis.title.refusedWłaściwości elektronowe nowych magnetyków molekularnych (Dziekanat)pl

Files