Repository logo
Thesis

Warstwy Ge2Sb2Te5 do zastosowań w pamięciach PCRAM

dc.contributor.authorWabno, Bartosz
dc.contributor.departmentWydział Inżynierii Materiałowej i Ceramiki
dc.contributor.reviewerKyzioł, Karol
dc.contributor.supervisorMars, Krzysztof
dc.date.available2019-03-23T10:39:44Z
dc.date.defence2019-01-29
dc.description.typepraca inżynierska
dc.identifier.urihttps://repo.agh.edu.pl/handle/AGH/68321
dc.language.isopol
dc.rightsAGH Licence (Thesis) - Fair Use
dc.rights.accessotwarty dostęp
dc.rights.accessNoteBrak zgody na udostępnienie pracy w czytelni Biblioteki Wydziałowej
dc.rights.urihttps://repo.agh.edu.pl/info/licence-agh-thesis
dc.subjectwarstwypl
dc.subjectgermanpl
dc.subjecttellurpl
dc.subjectantymonpl
dc.subjectpamięci zmiennofazowepl
dc.subjectkontrast rezystancyjnypl
dc.titleWarstwy Ge2Sb2Te5 do zastosowań w pamięciach PCRAMpl
dc.title.alternativeGe2Sb2Te5 films for application in PCRAMen
dc.typepraca dyplomowa
dspace.entity.typePublication
thesis.degree.disciplineTechnologia Chemiczna (WIMiC)pl
thesis.degree.formOfStudystacjonarnepl
thesis.degree.grantorAkademia Górniczo-Hutnicza im. Stanisława Staszica w Krakowiepl
thesis.degree.levelstudia pierwszego stopniapl
thesis.degree.nameinżynierpl
thesis.identifier.dxp209435
thesis.statusORPDORPPD1_sent

Files