Rola buforowej warstwy tlenkowej na powierzchni Si (100) we wzroście warstw silseskwioksanowych
| dc.contributor.author | Szewczyk, Karolina | |
| dc.contributor.department | Wydział Inżynierii Materiałowej i Ceramiki | |
| dc.contributor.reviewer | Dorosz, Dominik | |
| dc.contributor.supervisor | Handke, Bartosz | |
| dc.date.available | 2019-08-09T09:50:02Z | |
| dc.date.defence | 2019-07-01 | |
| dc.description.type | praca magisterska | |
| dc.identifier.uri | https://repo.agh.edu.pl/handle/AGH/75936 | |
| dc.language.iso | pol | pl |
| dc.rights | Access rights reserved | |
| dc.rights.access | zastrzeżony dostęp | |
| dc.rights.accessNote | Brak zgody na udostępnienie pracy w czytelni Biblioteki Wydziałowej | |
| dc.rights.uri | https://repo.agh.edu.pl/info/restricted-access | |
| dc.subject | powierzchnia krzemu | pl |
| dc.subject | wzrost cienkich warstw | pl |
| dc.subject | oktasilseskwioksan z podstawnikami fenylowymi | pl |
| dc.title | Rola buforowej warstwy tlenkowej na powierzchni Si (100) we wzroście warstw silseskwioksanowych | pl |
| dc.title.alternative | The role of buffer oxide layer on the Si(100) surface in the growth of silsesquioxane thin films | en |
| dc.type | praca dyplomowa | |
| dspace.entity.type | Publication | |
| thesis.degree.discipline | Inżynieria Materiałowa (WIMiC) | pl |
| thesis.degree.formOfStudy | stacjonarne | pl |
| thesis.degree.grantor | Akademia Górniczo-Hutnicza im. Stanisława Staszica w Krakowie | pl |
| thesis.degree.level | studia drugiego stopnia | pl |
| thesis.degree.name | magister inżynier | pl |
| thesis.identifier.dxp | 255512 | |
| thesis.statusORPD | ORPPD1_sent |